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CN200410043527.9-用以形成薄膜的可在基片和防鍍片之間改變距離的噴鍍?cè)O(shè)備

本文檔由 Hitter 分享于2013-03-09 14:56

本專利介紹用以形成薄膜的可在基片和防鍍片之間改變距離的噴鍍?cè)O(shè)備。
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行業(yè)資料  —  金屬學(xué)與金屬工藝
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薄膜 噴鍍 設(shè)備
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